Growth of CrSi2 Nanostructures Using CrCl2 Powder on Si Substrates

Abstract

Chromium disilicide (CrSi 2 ) nanostructures were grown by the exposure of Si (111) substrates to CrCl 2 vapor in an argon gas flow at atmospheric pressure without using any metal catalyst. Dependence of the growth condition on the structural property was investigated. Hexagonal-shaped CrSi 2 microrods were grown at 750 °C with 0.05 g of CrCl 2 . As the quantity of CrCl 2 increased to 0.1 g, the bundle of CrSi 2 nanowires with microrods and web-liked CrSi 2 nanostructure with turning angles were grown at 750 °C and 700 °C, respectively. The preliminary discussion on the growth mechanism of CrSi 2 micro-and nanostructures was carried out. AbstrakPertumbuhan Struktur Nano CrSi 2 dengan Serbuk CrC1 2 pada Substrat Si. Struktur-struktur nano kromium disilisida (CrSi 2 ) dapat dikembangkan dengan paparan substrat Si (111) pada uap CrCl 2 di dalam aliran gas argon dengan tekanan atmosfer tanpa menggunakan katalis metal apa pun. Ketergantungan kondisi perkembangan pada elemen struktural juga diselidiki. Mikrorod CrSi 2 berbentuk heksagon dikembangkan pada suhu 750 °C dengan CrCl 2 sebanyak 0,05 g. Ketika kuantitas CrCl 2 meningkat menjadi 0,1 g, bundel kawat-kawat nano CrSi 2 dengan mikrorod dan struktur nano CrSi 2 berbentuk jaring dengan sudut putar mengalami perkembangan yang masing-masing terjadi pada suhu 750 °C dan 700 °C. Pembahasan pendahuluan juga diberikan mengenai mekanisme pertumbuhan struktur mikro dan nano CrSi 2 .