Generalized magneto-optical ellipsometry in ferromagnetic metals

Neuber, G.; Rauer, R.; Kunze, Jörg; Bäckström, Joakim; Rübhausen, Michael

doi:10.1016/j.tsf.2003.12.069

Cited by 11 publications

(9 citation statements)

References 3 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Two important parameters D and W are then obtained as the fitting parameters, a and b, by substituting in Eqs. (7) and (8). The two parameters for varying angles of incidence resulted from the analysis Fig.…”

Section: Resultsmentioning

confidence: 99%

“…6 as a model for the extraction of a and b and substituting them into Eqs. (7) and (8). From three repeated measurements, the refractive index can then be evaluated from Eqs.…”

Section: Methodsmentioning

confidence: 99%

“…Among them, ellipsometry which has been used to study thin film properties for more than a century is still a viable technique today [6][7][8][9][10][11]. It is highly effective and nondestructive for thickness and refractive index measurements.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

See 2 more Smart Citations

Validiation of Photometric Ellipsometry for Refractive Index and Thickness Measurements

Srisuwan

Sirisathitkul

Danworaphong

2014

MAPAN

View full text Add to dashboard Cite

We design and build a photometric ellipsometer that can be adjusted or modified to match specific needs for different experiments. To validate our setup, we test the system with glass substrates at multiple incident angles from 30°to 70°. The experimental data can then be fitted to the standard theoretical model for ellipsometry with a single interface, allowing the amplitude ratio (tan W) and the phase difference (D) to be evaluated as fitting parameters. As a result, we obtain the refractive indices of glass as 1.44-1.55 depending on the backing material. By the same means, it is also feasible to derive thicknesses of silicon oxide films. The resulting thicknesses are in good agreement with those determined by a commercial ellipsometer with the minimum deviation of 0.2 %.

show abstract

Section: Resultsmentioning

confidence: 99%

“…6 as a model for the extraction of a and b and substituting them into Eqs. (7) and (8). From three repeated measurements, the refractive index can then be evaluated from Eqs.…”

Section: Methodsmentioning

confidence: 99%

See 1 more Smart Citation

Validiation of Photometric Ellipsometry for Refractive Index and Thickness Measurements

Srisuwan

Sirisathitkul

Danworaphong

2014

MAPAN

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Однако свойства тонких пленок могут существенно отличаться от массивных материалов [7][8]. Это связано со структурными параметрами, такими как размер кристаллитов, а также с качеством интерфей-сов, промежуточных слоев и диффузии.…”

Section: Introductionunclassified

“…Метод определения оптических и геометрических параметров основан на минимизации функционала, образованного путем сравнения экспери-ментальных данных и модельных расчетов. В случае магнитных пленок имеет смысл объединение двух под-ходов: традиционной эллипсометрии и магнитооптики (МО) [15]. При этом для модельных расчетов может быть использован общий подход в рамках представлений матричной оптики.…”

Section: Introductionunclassified

Применение Метода Спектральной Эллипсометрии Для Характеризации Наноразмерных Пленок С Ферромагнитными Слоями

Хашим¹,

Сингх²,

Панина³

et al. 2017

Физика Твердого Тела

View full text Add to dashboard Cite

Наноструктурированные пленки с ферромагнитными слоями широко используются в наноэлектронике, сенсорных системах и телекоммуникации. Свойства нанопленок могут существенно отличаться от объемных материалов, что обусловлено влиянием интерфейсов, промежуточных слоев и диффузии. В данной работе развиваются методы спектральной эллипсометрии и магнитооптики для исследования оптических парамет-ров и процессов намагничивания для двух-и трехслойных пленок типа Cr/NiFe, Al/NiFe, Сr(Al)/Ge/NiFe на ситалловой подложке для различных толщин слоев Cr и Al. При толщине слоя меньше 20 nm имеется существенная зависимость комплексных коэффициентов преломления от толщины. Процессы перемагничи-вания двухслойных пленок слабо зависят от толщины верхнего слоя, однако значение коэрцитивности при перемагничивании трехслойных пленок может увеличиться более, чем в два раза, при увеличении толщины верхнего слоя с 4 до 20 nm.Результаты работы получены в рамках выполнения государственного задания Минобрнауки (задача 3.8022.2017.ВУ).

show abstract

Optical and magnetic properties of Al/NiFe and Al/Ge/NiFe nanosized films

et al. 2018

View full text Add to dashboard Cite

Nanosized films with ferromagnetic layers are widely used in nanoelectronics, sensor systems and telecommunication. The physical and magnetic properties of nanolayers may significantly differ from those known for bulk materials due to fine crystalline structure, influence of interfaces, roughness, and diffusion. In this work, we are employing a spectral ellipsometry method, magneto-optical Kerr magnetometry and VSM to investigate the impact of layer thickness on the optical constants and magnetization processes for two and three layer films of the type Al/NiFe/sitall, Al/Ge/NiFe/sitall on sitall substrate for different thickness of the upper Al layers. The refractive indexes of two layer films are well resolved by spectral ellipsometry demonstrating their good quality. Modelling data for three-layer films show considerable discrepancy with the experiment, which can be related to a stronger influence of interfaces. The magnetization processes of two-layer films weakly depend on the type and thickness of the upper non-ferromagnetic layers. However, the coercivity of three layer films may significantly change with the thickness of the upper layer: more than twice when the thickness of Al layer increases from 4 to 20 nm.

show abstract

Generalized magneto-optical ellipsometry in ferromagnetic metals

Cited by 11 publications

References 3 publications

Validiation of Photometric Ellipsometry for Refractive Index and Thickness Measurements

Validiation of Photometric Ellipsometry for Refractive Index and Thickness Measurements

Применение Метода Спектральной Эллипсометрии Для Характеризации Наноразмерных Пленок С Ферромагнитными Слоями

Optical and magnetic properties of Al/NiFe and Al/Ge/NiFe nanosized films

Contact Info

Product

Resources

About