Galli̇k Asi̇di̇n Fotokatali̇ti̇k Gi̇deri̇mi̇: Düşük Moleküler Ağirlikli Bi̇leşenler Kullanilarak Doğal Organi̇k Madde Modellemesi̇

Abstract

Hümik asitler gibi, doğal polimerlerin yapısal alt birimlerinden birini temsil eden gallik asitler, sucul sistemlerde doğal organik madde bozunmasının bir ürünü olarak kabul edilmektedir. Bu çalışmada, hümik maddelere yapısal olarak benzerlik gösteren küçük moleküler ağırlıklı gallik asit, model madde olarak değerlendirilmiştir. Gallik asidin fotokatalitik oksidasyonu, i) başlangıç madde konsantrasyonu, ii) fotokatalizör konsantrasyonu ve iii) fotokatalizör tipi gibi temel operasyon parametrelerinin etkisi araştırılarak incelenmiştir. Fotokatalizör olarak TiO 2 Degussa P-25, Hombikat UV-100, PC-10, PC-50 ve PC-105 kullanılmıştır. Gallik asidin zamana karşı fotokatalitik olarak giderimi, UV-vis ve floresans spektroskopik parametreler ve toplam organik karbon ölçümleri ile takip edilmiş ve birinci mertebeden kinetik model kullanılarak açıklanmıştır. Gallik asidin kinetik verilerinin, ana molekül olan hümik asidin fotokatalitik bozunma çalışmalarıyla ilişkilendirilebilmesi için karşılaştırmalı bir yaklaşım izlenmiştir. Gallik asidin farklı fotokatalizörler üzerindeki ön adsorpsiyon sonuçları, gallik asidin fotokatalitik giderim hızı ile doğru orantılı olarak ilişkilendirmiştir. Gallik asit giderim hız sabitlerinin UV 265 cinsinden karşılaştırılması; P-25> PC-10> UV-100> PC-105> PC-50 şekilinde sıralanırken, toplam organik karbon giderimi için hız sabitleri değişimi; PC-105> UV 100> PC-10> P-25> PC-50 olarak bulunmuştur. Test edilen çeşitli fotokatalizörler arasında PC-105' in, gallik asit giderimi için oldukça aktif olduğu bulunmuştur. PC-10 ve PC-50' nin küçük yüzey alanları göz önünde bulundurulduğunda, bu fotokatalizörlerin varlığında nispeten düşük giderim hızları elde edilmiştir.