Formación de películas delgadas base TiN sobre un acero AISI M2 mediante la técnica de PVD

Abstract

La deposición de películas delgadas de TiN con unos cuantos nanómetros de espesor se llevó a cabo a través de pulverización catódica reactiva de un blanco de Ti en una atmósfera de Ar+N utilizando una fuente de alimentación CC. Las películas depositadas se realizaron sobre probetas de acero AISI M2 cortadas de una barra de 1 a 1.5” de diámetro con espesores máximos de 8 mm. Finalmente, se caracterizaron las capas de TiN empleando diversas técnicas que incluyen: Microscopía Óptica (OM), Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) vinculado con la Espectroscopia de Energía Dispersiva (EDS), Pin on disc y Scratch.