Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie

Abstract

2014 Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure plasma ainsi qu'à une bonne résolution en font des matériaux de choix dans le cadre de la microlithographie à haute performance.Abstract. 2014 Poly(parachloromethylstyrene) and poly(parabromostyrene) are shown to have a desirable combination of properties, inducting high sensitivity, high dry etch resistance, and high resolution. As a consequence, there are very attractive candidates for high performance electron beam lithography.