DOI: 10.11606/d.3.2003.tde-09062003-113450
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Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD.

Abstract: Capítulo 1-Considerações Iniciais.

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“…Dessa forma, a estratégia adotada foi utilizar o óxido de silício (SiOx) depositado por sputtering como revestimento para a microagulha. Isso porque de acordo com a literatura [174,179], filmes desta natureza tendem a ser mais resistentes aos processos corrosivos.…”
unclassified
“…Dessa forma, a estratégia adotada foi utilizar o óxido de silício (SiOx) depositado por sputtering como revestimento para a microagulha. Isso porque de acordo com a literatura [174,179], filmes desta natureza tendem a ser mais resistentes aos processos corrosivos.…”
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