Erratum to: “Analysis of the primary process in isotope sputtering” [Nucl. Instr. and Meth. B 119 (1996) 359–374]

Shulga, V. I.; Sigmund, Peter

doi:10.1016/s0168-583x(97)00085-2

Cited by 19 publications

(31 citation statements)

References 0 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…From a theoretical point of view, the stopping of heavy clusters in a light material has been analyzed by Shulga and Sigmund [6]. They found that the range of a heavy cluster is increased beyond that of an equi-velocity atom.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Dependence of cluster ranges on target cohesive energy: Molecular-dynamics study of energetic Au402 cluster impacts

Anders

Urbassek

2008

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B:

View full text Add to dashboard Cite

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Dependence of cluster ranges on target cohesive energy: Molecular-dynamics study of energetic Au402 cluster impacts

Anders

Urbassek

2008

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B:

View full text Add to dashboard Cite

“…The bombardment of Si by molecular ions can lead to a reduction of the 2p-vacancy ion production due to the mechanism of the clearing-theway effect [15] that removes some atoms from the molecular projectile track in binary collisions between the front running projectile atom and the target atoms. As a result, the back running projectile atom(s) interact(s) with the target atom(s) at larger impact parameters and, in this case, the 2p-vacancy ion production will be smaller.…”

Section: Resultsmentioning

confidence: 99%

Non-additivity of multiply charged ion emission from Si and Al produced by molecular projectiles

Belykh

Palitsin

Adriaens

et al. 2004

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B:

View full text Add to dashboard Cite

Experiments are reported on the non-additivity of a multiply charged ion emission with various atomic and molecular projectiles. A distinction has been found in the non-additivity of the Si 2þ emission from Si. It manifests itself as a change of the non-additivity factor K 2;1 from K 2;1 < 1 (sub-linear effect) to K 2;1 > 1 (non-additive enhancement effect) in going from Au À 2 to Cu À 2 projectiles. It was shown that the sub-linear behaviour of K 2;1 is caused by the correlated move of projectiles gold atoms in a target matter (the clearing-the-way effect) and the origin of the nonadditive enhancement is not determined by non-linear cascade sputtering. On the basis of the results obtained a new effect in an ion-induced atomic-like Auger electron emission has been predicted.

show abstract

“…В расчётах использована компьютерная программа [10], основанная на приближении парных столкнове-ний и предусматривающая учёт слабых одновременных взаимодействий на больших расстояниях. Подроб-ное описание программы приведено в работах [11,12]. В качестве парного межатомного потенциала исполь-зован известный потенциал Зиглера-Бирсака-Литтмарка [13].…”

Section: методика расчётаunclassified

ANGLE DISTRIBUTION OF ATOMS SPUTTERED FROM TEXTURED Mo AND W POLICRYSTALS

Rogov¹,

Martynenko²,

Belova³

et al. 2011

PAST-TF

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

Текстура поверхности диагностических зеркал в токамаках влияет на их оптические характеристики. Поэтому исследование раз-ных проявлений поверхностной текстуры актуально. В то же время угловые распределения распылённых атомов важны для расчё-та загрязнения первого зеркала для оптических диагностик за счёт переосаждения продуктов эрозии. В работе исследовано влия-ние текстуры поверхностного слоя поликристаллических мишеней Mo и W на угловые распределения атомов при распылении в малоразмерном планарном DC-магнетроне ионами Ar + с энергией 200-300 эВ. Текстура формировалась при прокатке металличе-ских фольг и в процессе изготовления протяжённых прутков из слитков и контролировалась с помощью рентгеноструктурного анализа. Обнаружена анизотропия углового распределения атомов, распыляемых из фольг: в плоскости, перпендикулярной про-катке, наблюдается максимум при θ = 0 (нормаль к распыляемой поверхности); в плоскости, параллельной направлению прокатки, имеются максимумы при θ = 0 (Mo, W), 57º (Mo) и 60º (W). В случае распыления образцов, изготовленных из прутков, азимуталь-ной анизотропии не обнаружено, однако полярное распределение имеет максимум при θ = 37º (Mo) и 45º (W) в отличие от поли-кристаллов Mo и W с хаотическим распределением зёрен, для которых максимальный выход распыления наблюдается при θ = 0. Компьютерное моделирование, проведённое с учётом вклада кристаллитов, выявленных при рентгеноструктурном анализе, пока-зало хорошее качественное соответствие расчётных и экспериментальных угловых распределений распылённых атомов. Отмечено, что угловое распределение распылённых атомов может быть использовано для определения текстуры поверхности.Ключевые слова: распыление, угловое распределение, поликристаллы, текстура, магнетрон.ANGLE DISTRIBUTION OF ATOMS SPUTTERED FROM TEXTURED Mo AND W POLICRYSTALS. A.V. ROGOV, Yu.V. MARTYNENKO, N.E. BELOVA, V.I. SHULGA. Surface texture of diagnostic mirrors in tokamak s effects on mirrors optical characteristics. Therefore investigation of various texture manife stations is an actual problem. The same time angular distribution of sputtered atoms is important for calculation of first diagnostic mirror contamination due t o erosion products deposition. In the work the effects of W and Mo surface crystalline texture on the angular distribution of sputtered atoms was investigated at sputtering in small size DC-magnetron by 200-300 eV Ar + ions. Crystalline texture was formed under rolling of metal foils and during preparation of metal bars and was controlled by X-ray diffraction analysis. A strong anisotropy of the angular distribution was found for foils: in the planes oriented perpendicularly to the direction of rolling the angular distribution was peaked at the polar angle θ = 0, while in the direction parallel to the rolling the angular distribution has maxima at θ = 0 (Mo, W), 57º (Mo) and 60º (W). For bars, no azimuthal anisotropy was observed but the angular distribution was peaked at θ = 37º (Mo) and θ = 45º (W) in contrast to the case of Mo and W polycrystals with random gr...

show abstract

Erratum to: “Analysis of the primary process in isotope sputtering” [Nucl. Instr. and Meth. B 119 (1996) 359–374]

Cited by 19 publications

References 0 publications

Dependence of cluster ranges on target cohesive energy: Molecular-dynamics study of energetic Au402 cluster impacts

Dependence of cluster ranges on target cohesive energy: Molecular-dynamics study of energetic Au402 cluster impacts

Non-additivity of multiply charged ion emission from Si and Al produced by molecular projectiles

ANGLE DISTRIBUTION OF ATOMS SPUTTERED FROM TEXTURED Mo AND W POLICRYSTALS

Contact Info

Product

Resources

About