Electrochemical growth and characterization of CdTe nanorod arrays

Li, Qian; Tian, Lecheng; Chi, Kailin; Yang, Haibin; Sun, Meiling; Fu, Wuyou

doi:10.1016/j.apsusc.2013.01.131

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“…Também, a comparação dos padrões mostrados nas Figuras 7 a 11 com a microficha JCPDS 03-065-0440 permitiu concluir que os filmes de CdTe depositados sobre Pt tendem crescimento na orientação preferencial no plano (222). O CdTe apresentou pico de maior intensidade no plano (220), demonstrando um possível crescimento preferencial nessa posição, e demais pi-cos nos planos (200), (311), (622) e (640), também observados na literatura, correspondendo a fase cúbica do CdTe [1,11,17]. O substrato, platina, apresentou picos nos planos (220), (311) e (222).…”

Section: Resultsunclassified

“…Foi observado um crescimento preferencial dos grãos nas ranhuras do substrato e aparecimento de grãos mais uniformes e crescidos formando coalescência entre eles, decorrente do aumento do potencial de deposição. Foi observado uma morfologia granular com grãos com formas esféricas como é observado na literatura, [1,11,17].…”

Section: Resultsunclassified

“…Observa-se a superfície do eletrodo toda recoberta com o filme de CdTe, com a formação de pequenos grãos, formando um filme quase continuo em toda a superfície do eletrodo de platina. A morfologia do filme de padrão granular, com pequenos grãos de forma esférica [1,11,17].…”

Section: Resultsunclassified

“…É observado um crescimento seguindo a orientação das ranhuras do substrato com a formação de pequenos grãos, coalescendo entre eles, formando um filme continuo constituídos de pequenos grãos esféricos [1,11,17]. Com o objetivo de determinar o potencial de banda plana (E BP ) e o número de portadores do filme fino de CdTe eletrodepositado e com isso determinar a condutividade do filme, utilizou-se as medidas de capacitância.…”

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Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido

et al. 2015

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A eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KCl sat , com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n. Palavras-chave:Filme finos de CdTe, Eletrodeposição, Platina. ABSTRACTThe electrodeposition has been used for obtaining semiconductor materials; however, remain unclear the mechanisms involved in this process. Thus, this paper presents the research of this process, showing the characterization of electrodeposited CdTe on platinum substrate in acid solution. The deposition occurs from 0.0 V relative to the electrode Ag/AgCl KCl sat with step activated control and diffusion. The thin film of CdTe was electrodeposited on the platinum substrate at room temperature (~ 24 ° C) from an acidic solution. The influence of the applied potential was investigated using surface characterization techniques such as Xray diffraction analyses and scanning electron microscopy. The electrical properties of the films were performed capacitance measurements (Mott-Schottky plot). The thin CdTe films presented the prominent (220) planes, showing have a preferential growth in that plane. The films show a granular morphology influenced by deposition potential and property of an n-type semiconductor.

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Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido

et al. 2015

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“…At present, CdTe thin films have been successfully synthesized by several methods, including magnetron sputtering, hydrothermal method, electrochemical deposition, close space sublimation, vapor-liquid-solid and high vacuum thermal evaporation. Compared with other methods, magnetron sputtering has the advantage of high material incorporation, an entirely dry process, and deposition rate can be controlled [15][16][17][18][19][20][21][22][23][24]. Generally, CdTe solar cells are fabricated on glass substrates.…”

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