2017
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.01.023
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Effect of ion beam etching on the surface roughness of bare and silicon covered beryllium films

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1
1

Citation Types

0
3
0
3

Year Published

2019
2019
2020
2020

Publication Types

Select...
8

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 28 publications
(8 citation statements)
references
References 23 publications
0
3
0
3
Order By: Relevance
“…Для металлических образцов на скорость распыления на начальной стадии существенное влияние оказывает наличие окисленного слоя, а шероховатость поверхности на уровне σ eff ∼ 0.3 nm сохраняется при углах падения θ in = 0−30 • и минимальных энергиях ионов (E ion = 200−300 eV) [26]. В работе [27] проведено исследование возможностей ионно-пучковой обработки поверхности образцов из массивного бериллия, покрытых аморфной пленкой никеля. Показана возможность проведения глубокого травления (глубина до 250 nm) без деградации исходной шероховатости, что может быть востребовано для асферизации.…”
Section: международный симпозиум "unclassified
“…Для металлических образцов на скорость распыления на начальной стадии существенное влияние оказывает наличие окисленного слоя, а шероховатость поверхности на уровне σ eff ∼ 0.3 nm сохраняется при углах падения θ in = 0−30 • и минимальных энергиях ионов (E ion = 200−300 eV) [26]. В работе [27] проведено исследование возможностей ионно-пучковой обработки поверхности образцов из массивного бериллия, покрытых аморфной пленкой никеля. Показана возможность проведения глубокого травления (глубина до 250 nm) без деградации исходной шероховатости, что может быть востребовано для асферизации.…”
Section: международный симпозиум "unclassified
“…Однако методика хорошо работает только для подложек из аморфных материалов и в редких случаях в очень узком диапазоне параметров процесса, для монокристаллических материалов [12,16]. Так как в нашем случае образцы были покрыты металлом, то мы использовали подход, предложенный в [17], хорошо зарекомендовавший себя при ионной полировке бериллиевых подложек. Суть подхода заключается в том, что на поверхность методом магнетронного распыления наносился 200 nm слой аморфного кремния, и ионная полировка уже велась по данному слою.…”
Section: влияние ионной полировки на поверхность гдрunclassified
“…Во-вторых, эффективная шероховатость все же в 3−4 раза хуже требуемой для рентгенооптических приложений. В работе [22] мы нашли прием, позволивший нам существенно до ангстремного уровня улучшить шероховатость металлических пленок с помощью ионнопучкового травления. Рис.…”
Section: полируемость и формообразование бериллиевых подложекunclassified