Effect of ion beam etching on the surface roughness of bare and silicon covered beryllium

Нанесение Жидкого Стекла На Подложки Оптических Элементов И Его Молекулярный Состав

“…Для вакуумного (ВУФ) и экстремального (ЭУФ) ультрафиолетовых диапазонов электромагнитного излучения (λ = 10 − 200 nm) значение эффективной шероховатости поверхности должно быть менее 1 nm, а точность формы -лучше λ/14, где λ -рабочая длина волны. Наиболее перспективным материалом для подложек зеркал космических телескопов видимого и инфракрасного (ИК) диапазонов является бериллий, однако при переходе в коротковолновый диапазон достижение требуемых значений шероховатости ни механической, ни ионной полировкой оказывается невозможным [2]. Приемлемые параметры шероховатости на уровне 1.5 nm были получены при покрытии бериллия аморфным никелем с последующей его полировкой.…”