Effect of implantation of barium and oxygen ions on the emission properties of Mo, Pd, and Pd-Ba

Формирование Диэлектрических Подложек Для Магнетрон-Ного Осаждения Силицидных Покрытий

“…Интенсивные иследования свойств диоксида кремния связаны с применением SiO 2 в микроэлектронике, оптоэлектронике [1] и акустоэлектронике [2][3][4]. Основным материалом твердотельной электроники на сегодняшний день является кремний, что обусловлено не только его собственными уникальными свойствами, но и возмож-ностью создания на его поверхности однородной пленки высококачественного диэлектрика [4][5][6][7][8][9][10][11][12][13][14].…”