Elektronik cihazlarda ısı artışını kontrol ihtiyacı, yüksek termal iletkenlikli altlık malzemelerin üretilmesinin temel nedenini oluşturmaktadır. Si 3 N 4 seramiklerde termal iletkenliği etkileyen parametrelerinin kontrolü ile bu endüstriyel uygulamalar için uygun özellikte malzemeler geliştirilebilir. Si 3 N 4 seramiklerin termal iletkenliğine etki eden, yoğunluk ve tane sınır fazı gibi iki önemli parametre, sinterleme ilaveleri ve tekniklerine bağlıdır. Sinterlemede, uygulanan gaza maruz kalma süresi ve sinterleme sonrası uygulanan soğutma çevrimi, faz kristalizasyonunu etkileyen faktörler olup, sinterleme sonrası mikroyapıda oluşan fazların türü miktarı ve dağılımı termal iletkenliği etkiler. Bu çalışmada, Si 3 N 4 başlangıç tozuna (<1 µm), Y 2 O 3 ilave edilerek gaz basınçlı sinterleme (GPS) ile üretilmiş Si 3 N 4 seramiklerin, sinterleme sonrası farklı soğutma çevrimlerinin, mikroyapı ve termal iletkenliğe etkisi araştırılmıştır. Termal iletkenlik, yavaş soğutma ile 42,69 W/m.K, hızlı soğutma ile 44,18 W/m.K elde edilmiştir. Yavaş soğutma ile yoğunluk azalmış, açık porozite artmış, termal iletkenlik ~% 3,5 oranında azalmıştır.