Efeito da aplicação de silício na germinação de sementes de pimenta sob estresse salino

Abstract

O objetivo do presente estudo foi de avaliar a germinação de sementes de Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq.) sob estresse salino com efeito da aplicação de doses de silício. O delineamento experimental utilizado foi inteiramente ao acaso, com nove tratamentos (doses de cloreto de sódio associados com Silício) e quatro repetições, constando de 36 unidades experimentais. Para o estresse salino foi empregado concentrações de cloreto de sódio nas doses de 0; 3,5 e 4,5 dS m-1, e como fonte de silício utilizou-se dióxido de silício, sendo aplicadas as seguintes doses: 0, 30 e 60 g de silício 100 kg sementes-1. As variáveis analisadas foram plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de germinação, comprimento da parte aérea e de raiz e massa fresca e seca. Os resultados da análise de variância evidenciaram diferença significativa para os tratamentos (P>0,05), para as variáveis plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de emergência e massa seca de plântula, indicando efeito positivo da aplicação do silício, concluindo que condições de elevada salinidade, influenciam de forma negativa as variáveis observadas, porém, nos tratamentos com salinidade a adição de silício ajuda a atenuar o estresse na planta.