Der elektronenstoßinduzierte Abbau von Tetraalkoxysilanen

Abstract

Die Zerfallsreaktionen der Tetraalkoxysilane Si[O(CH2)nCH3]4 (n = 0–4) und Si[O(CH2)nCH(CH3)2]4 (n = 0, 1, 2) bei Elektronenstoß in der Ionenquelle des Massenspektrometers werden wiedergegeben. Sie bestehen im Abbau der primär durch Fragmentierung aus dem Molekülionen gebildeten Ionen (Alkyl‐O‐)3Si+ und (Alkyl‐O‐)3SiOCH2+. Diese Abbaureaktionen sind Folgen von Wasserstoffumlagerungen, in deren Verlauf Aldehyd‐ und Olefinabspaltungen miteinander konkurrieren. Im allgemeinen überwiegt die Olefinabspaltung. Die Besonderheiten dieser Reaktionen bei der Fragmentierung der verschiedenen Tetraalkoxysilane werden diskutiert.