Correlation between Chemical Shift, Plasmon Energy, and Partial Charge

Abstract

X-ray chemical shifts in copper and manganese compounds are correlated with the product of partial charge and plasmon energy. A linear relation between the chemical shifts and the product is observed, with the chemical shift increasing when the product increases. The constant of proportionality for copper and manganese is of different numerical value. The relationship is used to predict the chemical shifts for other copper and manganese compounds. When correlating chemical shifts with plasmon shift alone, it is seen that the chemical shifts do not vary linearly with plasmon shifts. Die chemischen Rontgenverschiebungen in Kupfer-und Manganverbindungen werden mit demProdukt der Teilladung und der Plasmonenenergie korreliert. Es wird eine lineare Beziehung zwischen der chemischen Verschiebung und dem Produkt beobachtet, wobei die chemische Verschiebung anwlchst, wenn das Produkt anwachst. Die Proportionalitatskonstante is numerisch fur Ihpfer und Mangan verschieden. Die Beziehung wird benutzt, um die chemischen Verschiebungen fur andere Kupfer-und Manganverbindungen vorherzusagen. Wenn die chemischen Verschiebungen mit der Plasmonenverschiebung allein korreliert werden, wird beobachtet, daO die chemischen Verschiebungen sich nicht linea,r mit der Plasmonenverschiebung iindern.