Composition and structure of copper oxide films synthesized by reactive magnetron sputtering with a hot target

“…Пленки оксинитридов переходных металлов, имеющие широкую область применения, осаждают многими методами [1,2]. Среди них наиболее часто используют методы реактивного распыления на постоянном токе [3], в том числе с горячей мишенью [4][5][6][7][8] и высокой мощностью [9][10][11]. Для эффективного применения реактивного распыления необходимо установить его общие закономерности, выявить связи между управляемыми и зависимыми переменными.…”

Section: Introductionunclassified

Горячая Мишень. Физико-Химическая Модель Реактивного Распыления

Шаповалов¹

2019

Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

Получила развитие неизотермическая физико-химическая модель реактивного распыления. Новый вариант модели описывает распыление горячей металлической мишени в смеси аргона и одного реактивного газа. Синтез пленки на всех поверхностях вакуумной камеры задан в форме поверхностной химической реакции. Для математического описания реакции использован основной постулат химической кинетики с учетом уравнения изотермы Ленгмюра и уравнения Аррениуса в неизотермических условиях. Зависимость температуры мишени от плотности тока разряда определена по результатам измерения спектров разряда в ближнем ИК-диапазоне. Для аналитического описания модели предложена система из восьми алгебраических уравнений. С ее помощью выполнен анализ влияния плотности тока и расхода реактивного газа на процесс реактивного распыления горячей титановой мишени в смеси аргон + азот при плотности тока 25−600 A/m 2 . Установлено, что разогрев мишени смещает точки изменения режимов работы мишени в область меньших расходов азота и уменьшает ширину петли гистерезиса по сравнению с холодной мишенью. При этом влияние испарения мишени на процесс начинает проявляться при плотности тока более 400 A/m 2 .

show abstract

“…Наиболее совершенные оксидные слои получают до сих пор с помощью дорогостоящего оборудования -на установках газофазной эпитаксии из металлорганических соединений либо методом атомно-слоевого осаждения [11,12]. Однако появляется все боль-ше публикаций, где исследуются процессы формирова-ния оксидных материалов более доступными способами, такими как гидротермальный синтез, электроосаждение из раствора и магнетронное распыление [13][14][15]. Метод магнетронного распыления выгодно отличается тем, что с его помощью удается быстро формировать однородные слои хорошего качества.…”

Section: Introductionunclassified

Формирование кристаллических слоев Cu-=SUB=-2-=/SUB=-O и ZnO методом магнетронного распыления и их оптическая характеризация

Агекян¹,

Borisov²,

Gudovskikh³

et al. 2018

Физика И Техника Полупроводников

View full text Add to dashboard Cite

Copper (I) oxide and zinc oxide films are formed on silicon and glassy quartz substrates by magnetron assisted sputtering. The thickness of the films is tens and hundreds of nanometers. The films are grown at different substrate temperatures and different oxygen pressures in the working chamber. The film samples are studied by the X-ray diffraction technique, scanning electron microscopy, and optical methods. It is established that an increase in the substrate temperature yields a change in the surface morphology of copper (I) oxide films towards the formation of well-pronounced crystallites. The reflectance and Raman spectra suggest that the quality of such films is close to that of bulk Cu_2O crystals produced by the oxidation of copper. As concerns ZnO films, an increase in the substrate temperature and an increase in the partial oxygen pressure make it possible to produce films, for which a sharp exciton structure is observed in the reflectance spectra and the emission of excitons bound at donors is observed in the luminescence spectra.

show abstract

Composition and structure of copper oxide films synthesized by reactive magnetron sputtering with a hot target

Cited by 25 publications

References 14 publications

Modelling of hot target reactive sputtering

Modelling of hot target reactive sputtering

Горячая Мишень. Физико-Химическая Модель Реактивного Распыления

Формирование кристаллических слоев Cu-=SUB=-2-=/SUB=-O и ZnO методом магнетронного распыления и их оптическая характеризация

Contact Info

Product

Resources

About