Complex characterisation of vacuum arc-deposited chromium nitride thin films

Pre-, intermediate, and post-treatment of hard coatings to improve their performance for forming and cutting tools

“…CrN-based coatings have good corrosion and wear resistance [27,28,29] However, coating defects allow corrosion pitting to occur at localized spots where the coating defects facilitate direct contact of the corrosive species with the base metal [14]. Fig.…”

Microstructure control of CrNx films during high power impulse magnetron sputtering

“…Cr-N was chosen as a model system due to the limited reactivity of Cr towards nitrogen (resulting in a high partial pressure required for a turnover from metallic to nitrided target state), which allows for a better control of film composition while investigating the relationship between the flow of reactive gas and the pulsing frequency [24]. In contrast, N-rich CrN x films have been deposited by a number of sputtering techniques and are relatively well characterized [25][26][27][28][29][30][31].…”

Coatings on the Basis of Chromium Nitride. Experience of Design and Investigation

“…Отношение J g /J m влияет, в основном, на стехиометрию покрытия, отношение J i /J m и энергия определяют микроструктуру и ориентацию [13,14,25,26,27]. Однако, роль данных параметров различна для плаз-менных и ионно-стимулирующих технологий.…”

“…В общих чертах влияние величины давления азота на стехиомет-рию композита при вакуумно-дуговом испарении аналогично влия-нию давления смеси Ar    N 2 при магнетронном распылении -в диапазоне низких давлений увеличение содержания азота приво-дит к последовательному межфазному переходу Cr    Cr 2 N    CrN [25,44,45,63,93,102], при высоких давлениях фаза Cr 2 N не обра-зуется [38][39][40][41][42]. Интерпретация данного явления совпадает с тем, которое мы предлагали для случая магнетронного распыления, за исключением того, что при вакуумно-дуговом испарении основную роль в диссоциации молекул азота (на поверхности или в объеме) играют не ионы аргона, а ионы хрома.…”

“…Видно, что увеличение напряжения смещения (энергии ио-нов хрома и азота) приводит к формированию фазы CrN с преиму-щественной ориентацией (220). Аналогичные результаты были по-лучены в работах [25,41,42]. Возможное объяснение данного явле-ния заключается в том, что увеличение напряжения смещения приводит увеличению энергии ионов хрома и возрастанию коэффи-циента распыления осаждаемого покрытия, что, в свою очередь за-трудняет формирование плотноупакованных плоскостей парал-лельно поверхности подложки.…”