2006
DOI: 10.1016/j.tsf.2006.07.022
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Colloidal indium tin oxide nanoparticles for transparent and conductive films

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
3
1
1

Citation Types

0
22
2
1

Year Published

2010
2010
2018
2018

Publication Types

Select...
8
2

Relationship

1
9

Authors

Journals

citations
Cited by 49 publications
(25 citation statements)
references
References 18 publications
0
22
2
1
Order By: Relevance
“…Diantara teknik tersebut, teknik-teknik pembuatan film secara fisika seperti sputtering, electron beam evaporation, pulsed laser deposition, dan physical vapor dilaporkan memiliki kekurangan yaitu luas daerah pembentukan film kecil, membutuhkan instrumen yang canggih, biaya operasi yang tinggi, dan setiap sudah digunakan sistem harus sangat bersih (Shinde et al, 2007). Teknikteknik pembuatan film secara kimia seperti chemical vapor deposition dilaporkan tidak memadai untuk produksi film secara besar-besaran karena membutuhkan peralatan tambahan seperti vacuum equipment (Young et al, 2006). Pada penelitian ini, dilakukan studi pembuatan film ZnO dengan doping alumunium rendah (ZnO:Al, Al/Zn = 1,0 x 10 -2 ) dengan teknik screen printing pada temperatur anealing 300, 400, 500 dan 600 o C. Teknik screen printing dipilih karena prosesnya mudah dan telah digunakan untuk memproduksi sel surya, paristor, detektor UV (Krisnan dan Nampoori, 2005; Overstraeten dan Mertens, 1986).…”
Section: Pendahuluanunclassified
“…Diantara teknik tersebut, teknik-teknik pembuatan film secara fisika seperti sputtering, electron beam evaporation, pulsed laser deposition, dan physical vapor dilaporkan memiliki kekurangan yaitu luas daerah pembentukan film kecil, membutuhkan instrumen yang canggih, biaya operasi yang tinggi, dan setiap sudah digunakan sistem harus sangat bersih (Shinde et al, 2007). Teknikteknik pembuatan film secara kimia seperti chemical vapor deposition dilaporkan tidak memadai untuk produksi film secara besar-besaran karena membutuhkan peralatan tambahan seperti vacuum equipment (Young et al, 2006). Pada penelitian ini, dilakukan studi pembuatan film ZnO dengan doping alumunium rendah (ZnO:Al, Al/Zn = 1,0 x 10 -2 ) dengan teknik screen printing pada temperatur anealing 300, 400, 500 dan 600 o C. Teknik screen printing dipilih karena prosesnya mudah dan telah digunakan untuk memproduksi sel surya, paristor, detektor UV (Krisnan dan Nampoori, 2005; Overstraeten dan Mertens, 1986).…”
Section: Pendahuluanunclassified
“…Doped SnO 2 has many potential applications. In particular, it¯nds to be useful in gas sensors, 1 solar energy conversion, 2 infraredre°ecting glasses, 3 antistatic coatings 4 and transparent electrodes 5,6 due to its wide band-gap width, high optical transmittance in the visible range and good substrate adherence. It has to be stated that compared to more widely used tin-doped indium oxide, SnO 2¯l ms are inexpensive, chemically stable in acidic and basic solutions, thermally stable in oxidizing environments at high temperatures and also mechanically strong, which are important attributes for the fabrication and operation of solar cells.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…The doped SnO 2 , due to its wide band gap (3.67 eV), high optical transmittance in the visible range and good substrate adherence, has many potential applications such as gas sensors [6], solar energy conversion [7], infrared-reflecting glass [8], antistatic coatings [9] and transparent electrode preparation [10,11]. F [12], Sb [13], Ni [14], Co [15], Mn [16], etc., have been used as dopants for SnO 2 .…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%