Closed loop control of thin film sputter deposition processes using glow discharge mass spectroscopy

Tisone, T. C.; Bolker, B. F. T.; Latos, T. S.

doi:10.1116/1.570470

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1980

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Erprobung und Vergleich plasmadiagnostischer Methoden für Anwendungen in der Plasmaoberflächentechnik

Crolly

Krupp

1993

Materialwissenschaft Werkst

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Notwendige Voraussetzung für den gezielten Einsatz plasmagestützter Verfahren in der Oberflächen‐ und Dünnschichttechnik ist die möglichst präzise Kenntnis der charakteristischen Parameter und Eigenschaften des Plasmas sowie deren Korrelation mit den Eigenschaften der erzeugten Schichten bzw. den beabsichtigten Oberflächenmodifikationen.Da die Ermittlung aller relevanten Plasmaparameter mit einem einzigen Diagnoseverfahren nicht gelingt, ist es notwendig, durch gekoppelten Einsatz verschiedener Verfahren einen breiteren und abgesicherten Zugang zu den Plasmakenngrößen zu schaffen. Zugleich wird auf diese Weise ein kritischer Vergleich der Ergebnisse der einzelnen Verfahren ermöglicht. Neben konventionellen Sondentechniken werden hauptsächlich die optische Emissions‐spektroskopie und die Plasma‐Massenspektrometrie eingesetzt. Die Einordnung der verschiedenen Methoden hinsichtlich ihrer Eignung als Standardverfahren für den Einsatz in der technologischen Praxis ist ebenfalls von Bedeutung.

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