Chemical diffusion for CoO and Cu2O deduced from creep transitories

Abstract

2014 A la suite d'un changement de pression d'oxygène, l'analyse du fluage transitoire nous a permis de déterminer un coefficient de diffusion chimique pour les monocristaux et polycristaux de CoO et Cu2O. Le retour à l'équilibre de la concentration des défauts ponctuels se fait au même rythme pour tous les défauts concernés. Les joints de grains n'accélèrent pas ce processus de façon sensible. Abstract. 2014 The analysis of creep transitories after a change in oxygen partial pressure, allowed us to determine chemical diffusion coefficients for CoO and Cu2O, single-and polycrystals. The rate of equilibration of point defect concentrations is similar for all defects. Grain boundaries do not seem to accelerate the process.