An AFM study of the growth kinetics of the self-assembled octadecylsiloxane monolayer on oxidized silicon

Balgar, Thorsten; Bautista, Rafael; Hartmann, Nils; Hasselbrink, Eckart

doi:10.1016/s0039-6028(03)00101-8

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“…[58] In contrast, shorter-chain molecules do not show island growth. [56] Several AFM studies revealed that the deposition process strongly depends on parameters such as solvent, [59] solution age, [60][61][62] water content, [51,60,61,63] deposition time, [62][63][64] and temperature. [65][66][67][68] Vallant et al observed both homogeneous growth and island-type growth depending on the water content and age of the silane solution.…”

Section: Mechanism Of Formationmentioning

confidence: 99%

Engineering Silicon Oxide Surfaces Using Self‐Assembled Monolayers

2005

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Although a molecular monolayer is only a few nanometers thick it can completely change the properties of a surface. Molecular monolayers can be readily prepared using the Langmuir-Blodgett methodology or by chemisorption on metal and oxide surfaces. This Review focuses on the use of chemisorbed self-assembled monolayers (SAMs) as a platform for the functionalization of silicon oxide surfaces. The controlled organization of molecules and molecular assemblies on silicon oxide will have a prominent place in "bottom-up" nanofabrication, which could revolutionize fields such as nanoelectronics and biotechnology in the near future. In recent years, self-assembled monolayers on silicon oxide have reached a high level of sophistication and have been combined with various lithographic patterning methods to develop new nanofabrication protocols and biological arrays. Nanoscale control over surface properties is of paramount importance to advance from 2D patterning to 3D fabrication.

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Section: Mechanism Of Formationmentioning

confidence: 99%

Engineering Silicon Oxide Surfaces Using Self‐Assembled Monolayers

2005

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“…[36][37] In the present study, AFM was employed for the textural characterization in terms of surface morphology, and roughness of some silicas obtained by the sol-gel method. Figure 3 presents some tridimensional AFM images of sílicas produced at different TEOS/ODS molar ratios.…”

Section: Effect Of the Teos/ods Molar Ratio On The Morphology And Texmentioning

confidence: 99%

Spherical and lamellar octadecylsilane hybrid silicas

Brambilla

Pires

Silveira

et al. 2008

Journal of Non-Crystalline Solids

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“…[58] Kurzkettige Moleküle weisen dagegen kein Inselwachstum auf. [56] Verschiedene AFM-Studien machten deutlich, dass der Abscheidungsprozess stark von Parametern wie der Art des Lösungs-mittels, [59] dem Alter der Lösung, [60][61][62] dem Wassergehalt, [51,60,61,63] der Abscheidungszeit [62][63][64] und der Temperatur [65][66][67][68] [64] Der Mechanismus der Monoschichtenbildung ist komplex und hängt von vielen Parametern ab; dennoch wurden in einigen Studien Langmuir-Adsorptionskinetiken erster Ordnung beobachtet. Bei diesen Studien wurden Analysetechniken wie In-situ-ATR-IR, [69] AFM, [61] Röntgenreflexion [70] und Ellipsometrie eingesetzt.…”

Section: Bildungsmechanismusunclassified

“…Zusätzlich liefert es eine Erklärung für die Abweichungen von den Langmuir-Adsorptionskinetiken erster Ordnung, die in verschiedenen Ex-situ-Studien beobachtet wurden. [64,72] Dass die Bildung von Monoschichten temperaturabhän-gig ist, ist bereits seit der ersten Veröffentlichung über selbstorganisierte Monoschichten bekannt. [3] Schon 1947, in der zweiten klassischen Publikation von Zisman et al, [4] wurde von einer kritischen Temperatur berichtet, oberhalb derer keine Monoschichten mehr gebildet werden.…”

Section: Bildungsmechanismusunclassified

Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

2005

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Nur wenige Nanometer dicke molekulare Monoschichten können die Eigenschaften von Oberflächen vollkommen verändern. Die Herstellung dieser molekularen Monoschichten kann leicht durch die Langmuir‐Blodgett‐Methode oder durch chemische Adsorption (Chemisorption) an Metall‐ und Oxidoberflächen erfolgen. Dieser Aufsatz konzentriert sich auf chemisorbierte selbstorganisierte Monoschichten (SAMs) als Plattformen für die Funktionalisierung von Siliciumoxidoberflächen. Die Organisation von Molekülen und molekularen Aufbauten auf Siliciumoxid wird in der “Bottom‐Up”‐Nanofabrikation einen außerordentlichen Platz einnehmen und könnte Gebiete wie die Nanoelektronik und die Biotechnologie in naher Zukunft revolutionieren. In den letzten Jahren wurden selbstorganisierte Monoschichten auf Siliciumoxid so weit entwickelt und mit verschiedenen lithographischen Methoden kombiniert, dass neue Nanofabrikationsstrategien und biologische Arrays entwickelt werden können. Will man Fortschritte auf dem Weg von der Bildung zweidimensionaler Muster hin zur dreidimensionalen Fabrikation erzielen, ist die Kontrolle von Oberflächeneigenschaften im Nanometerbereich von größter Bedeutung.

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An AFM study of the growth kinetics of the self-assembled octadecylsiloxane monolayer on oxidized silicon

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Engineering Silicon Oxide Surfaces Using Self‐Assembled Monolayers

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Spherical and lamellar octadecylsilane hybrid silicas

Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

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