Adsorption of halogens on metal surfaces

Andryushechkin, B. V.; Павлова, Т. В.; Eltsov, K. N.

doi:10.1016/j.surfrep.2018.03.001

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“…As target substrates we have chosen Ag(111) and Au(111) passivated with chemisorbed iodine monolayers, because iodine passivation is facile, self‐limiting to one monolayer and renders the surface inert with respect to thermally activated dehalogenation [8, 19] . Iodine forms hexagonal √3×√3R±30° superstructures on both Au(111) and Ag(111) with similar lattice parameters of a = b =0.50 nm [20] . More importantly, adsorbed aryl radicals form covalent‐like bonds with the chemisorbed iodine atoms, [21] which may be helpful to stabilize smaller radical species for STM characterization.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

“…[8,19] Iodine forms hexagonal p 3 p 3R AE 308 8 superstructures on both Au(111) and Ag(111) with similar lattice parameters of a = b = 0.50 nm. [20] More importantly,a dsorbed aryl radicals form covalent-like bonds with the chemisorbed iodine atoms, [21] which may be helpful to stabilize smaller radical species for STM characterization. We used the 4,4''-diiodo-pterphenyl (DITP) precursor as relatively simple and wellstudied model compound.…”

Section: Introductionmentioning

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Carbon‐Carbon Coupling on Inert Surfaces by Deposition of En Route Generated Aryl Radicals

2020

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To facilitate C−C coupling in on‐surface synthesis on inert surfaces, we devised a radical deposition source (RDS) for the direct deposition of aryl radicals onto arbitrary substrates. Its core piece is a heated reactive drift tube through which halogenated precursors are deposited and en route converted into radicals. For the proof of concept we study 4,4′′‐diiodo‐p‐terphenyl (DITP) precursors on iodine‐passivated metal surfaces. Deposition with the RDS at room temperature results in highly regular structures comprised of mostly monomeric (terphenyl) or dimeric (sexiphenyl) biradicals. Mild heating activates progressive C−C coupling into more extended molecular wires. These structures are distinctly different from the self‐assemblies observed upon conventional deposition of intact DITP. Direct deposition of radicals renders substrate reactivity unnecessary, thereby paving the road for synthesis on application‐relevant inert surfaces.

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Section: Introductionmentioning

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Carbon‐Carbon Coupling on Inert Surfaces by Deposition of En Route Generated Aryl Radicals

2020

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“…In this work, we want to make a contribution to our understanding of this topic, and discuss the adsorption of chloride on Au(100) [5–7] …”

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Role of the Partial Charge Transfer on the Chloride Adlayers on Au(100)

2020

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We focused on a controversial old issue of the electrochemistry community, partial charge transfer reactions. We chose as paradigmatic example the adlayers of chloride on Au(100) electrodes. In the light of new developments we have investigated the nature of the bond of 84 different geometrical configurations and 102 single adsorption events for different coverages. In all the cases the adsorbed chloride is partially charged. The electronic properties of these adlayers are discussed on the basis of the analysis of dipole moments, electronic charge density redistribution, density of electronic states and changes in the work function.

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“…Zudem inertisiert sie die Oberflächen hinsichtlich einer thermisch aktivierten Dehalogenierung [8, 19] . Iod bildet sowohl auf Au(111) als auch auf Ag(111) eine hexagonale √3×√3R±30° Überstruktur aus mit identischen Gitterparametern von a = b =0.50 nm [20] . Wichtiger ist jedoch, dass die adsorbierten Aryl Radikale kovalente Bindungen mit den chemisorbierten Iod Atomen eingehen, [21] wodurch kleinere radikalische Spezies für eine STM Charakterisierung stabilisiert werden können.…”

Section: Introductionunclassified

“…[8,19] Iod bildet sowohl auf Au(111) als auch auf Ag(111) eine hexagonale p 3 p 3R AE 308 8 Überstruktur aus mit identischen Gitterparametern von a = b = 0.50 nm. [20] Wichtiger ist jedoch, dass die adsorbierten Aryl Radikale kovalente Bindungen mit den chemisorbierten Iod Atomen eingehen, [21] wodurch kleinere radikalische Spezies füre ine STM Charakterisierung stabilisiert werden kçnnen. Als vergleichsweise einfache und gut untersuchte Modell Verbindung dient 4,4''-Diiodo-p-terphenyl (DITP).…”

Section: Introductionunclassified

Kohlenstoff‐Kohlenstoff‐Kupplung auf inerten Oberflächen durch die Abscheidung von en route erzeugten Aryl Radikalen

2020

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Zur Realisierung von C‐C‐Kupplungen in der Oberflächensynthese auf inerten Oberflächen haben wir eine Radikal‐Abscheidungs‐Quelle (RAQ) für die direkte Abscheidung von Aryl Radikalen auf beliebige Substrate entwickelt. Das Herzstück ist ein beheiztes reaktives Drift‐Rohr, durch das halogenierte Vorläufer abgeschieden und dabei en route in Radikale umgewandelt werden. Den Machbarkeitsbeweis erbringen wir mit 4,4′′‐Diiod‐p‐terphenyl (DITP)‐Vorläufern auf Iod‐passivierten Metall‐Oberflächen. Aus der Abscheidung mit der RAQ bei Raumtemperatur resultieren sehr regelmäßige Strukturen, die hauptsächlich aus monomeren (Terphenyl) oder dimeren (Sexiphenyl) Biradikalen bestehen. Mildes Heizen aktiviert die fortschreitende C‐C‐Kupplung in ausgedehntere molekulare Drähte. Diese Strukturen unterscheiden sich grundlegend von den nach konventioneller Abscheidung von intaktem DITP beobachteten selbst‐assemblierten Strukturen. Durch die direkte Abscheidung von Radikalen ist die Reaktivität des Substrats nicht mehr notwendig, und damit der Weg zur Synthese auf anwendungsrelevanten inerten Oberflächen geebnet.

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Adsorption of halogens on metal surfaces

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Carbon‐Carbon Coupling on Inert Surfaces by Deposition of En Route Generated Aryl Radicals

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Kohlenstoff‐Kohlenstoff‐Kupplung auf inerten Oberflächen durch die Abscheidung von en route erzeugten Aryl Radikalen

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