Produção de superfícies seletivas de Ni/NiO por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio

Abstract

Produção de superfícies seletivas de Ni/NiO por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio (Production of Ni/NiO selective surfaces by chemical and electrolitic processes over aluminum substrate) ResumoRecobrimentos de Ni/NiO em substrato de alumínio têm sido utilizados para se desenvolverem superfícies seletivas com alto desempenho para aplicações fototérmicas. Industrialmente essas superfícies têm sido empregadas em coletores solares. No presente trabalho, amostras de alumínio foram recobertas com Ni/NiO por processos químico e eletrolítico seguidos de tratamento térmico para oxidação. Os filmes foram produzidos em camada dúplex, sendo a primeira constituída de Ni e a segunda de NiO, a camada de anti-reflexão (AR). As espessuras dos filmes depositados têm cerca de 1,0µm. As microestruturas das amostras foram examinadas ao microscópio eletrônico de varredura (MEV). Análises de difração de raios X (DRX) identificaram as fases presentes. As amostras foram caracterizadas quanto às propriedades óticas nas regiões do visível e do infravermelho próximo. A absortância solar média dos recobrimentos eletrolíticos oxidados atingiu picos de 97,5%, enquanto a refletância no infravermelho distante foi de 12%. Palavras-chave:Recobrimentos Ni/NiO, superfícies seletivas, processo eletrolítico, absortância solar. Abstract