Neste trabalho calculamos a taxa de ionização (probabilidade de ionização por unidade de tempo) para uḿ atomo póximo a uma superficie metálica submetido a um campo elétrico uniforme. A probabilidade de penetração da barreiraé calculada usando a aproximação WKB. Utilizando-se um modelo simples para a energia potencial do elétron externo doátomo, mas que contém as características física principais do problema, obtem-se uma expressão analítica para a taxa de ionização em função da distânciaátomo-superfície. Apresenta-se também de forma introdutória os princípios básicos de funcionamento do microscópio iônico de campo. Palavras-chave: ionização por campo, microscopia iônica, método WKB.In this work we calculate the ionization rate constant (ionization probability per unit of time) as a function of the applied field (we assume a uniform field) and the atom's distance from the metal surface. In order to calculate the probability of barrier penetration we use semiclassical (WKB)approximation. We utilize one-dimensional model potential which is chosen to be a good physical representation of the real system. In addition, the field ion microscope is approached in a elementary way.