Вакансионные Механизмы Эволюции Кристаллов И Тонких Пленок Под Влиянием Внешней Нагрузки

Abstract

В работе рассмотрена эволюция поверхности кристаллов и тонких пленок под воздействием потока частиц и механической нагрузки. Возникновение неустойчивости на плоской поверхности кристалла может быть вызвано наличием вакансий в объеме кристалла, которые диффундируют к поверхности кристалла или к микропорам в его объеме. Показано, что описанный эффект может вызывать появление шероховатости и волнистости на поверхности кристалла с характерными масштабами, определяемыми свойствами потока частиц. Получено аналитическое выражение для критерия возникновения неустойчивости и описаны различные последствия развития неустойчивости. Результаты могут быть использованы для оценки условий роста тонких пленок, при которых поверхность устойчива к возникновению шероховатости по вакансионному механизму. Также исследована эволюция микропор, содержащихся в объеме кристалла, под воздействием растягивающих механических напряжений.