1951
DOI: 10.1149/1.2778116
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Vapor Pressure of Beryllium Oxide

Abstract: The vapor pressure of beryllium oxide has been measured by a modification of the Knudsen effusion method, utilizing radioactive 4Be7 as tracer. In the experimental temperature range of 1950° to 2150°C the vapor pressure is given by the equation log10pnormalmm=18.50−34,230T−2 log10T The boiling point of liquid beryllium oxide is estimated to be 4120 ± 170°C with a molar entropy of vaporization at the boiling point of 25.6 plusmn; 2.7 cal/deg.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1

Citation Types

0
1
0
3

Year Published

1957
1957
2013
2013

Publication Types

Select...
3
3
1

Relationship

0
7

Authors

Journals

citations
Cited by 39 publications
(4 citation statements)
references
References 8 publications
0
1
0
3
Order By: Relevance
“…Изменения энтальпии и свободной энергии для аналогичной реакции, протекающей в газо-вой фазе, рассчитанные на основании измерений упругости пара ВеО [15,16], оказались равными 108,5 …”
Section: взаимодействие бериллия с парами воды и влажными газамиunclassified
See 2 more Smart Citations
“…Изменения энтальпии и свободной энергии для аналогичной реакции, протекающей в газо-вой фазе, рассчитанные на основании измерений упругости пара ВеО [15,16], оказались равными 108,5 …”
Section: взаимодействие бериллия с парами воды и влажными газамиunclassified
“…Оксиды могут вступать во взаимодействие с окружающей атмосферой, в частности, с восстанови-тельными средами и со средами, содержащими углерод [35][36][37][38][39][40][41][42][43][44][45]. Обычно тугоплавкие оксиды устойчи-вы к воздействию различных газовых сред.…”
Section: потеря оксидной плёнкой защитных свойствunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Sublimation with condensation on a cold surface gives good deposits, but is not often used for routine assays because of the difficulty of making quantitative transfers. An exception is the case where the process being studied is one of volatilization (39). An important application is to the preparation of very thin and uniform layers for physical measurements, particularly of irradiations (70).…”
Section: Preparation and Mounting Of Samplesmentioning
confidence: 99%