“…因此, 受磁场影响的ISC 过程产生MC曲线的符号是正的, 具有Lorentzian线 型且其线宽只有几个mT [13,22] 态激子(trapped triplet exciton, T t ). 因此, S 1t , T t , P t , S 1 , [18,22] , 即T t +P→S 0 +P t , 使得流过器件的电流减小, 磁场抑制此过程将产生正的MC, 如图3(b)所示的第 (ⅱ)种情况; (4) P t 与自由T激子相互作用发生TP t I过 程 [13,17~21] , 即T+P t →S 0 +P, 通过去陷阱过程(detrapping process)产生二次载流子, 使得流过器件的电流增大, 由于超精细诱导的ISC过程对应的磁场效应往往 处于几个毫特斯拉的量级 [13,22] , T t PI与TP t I过程对应 的特征磁场通常也仅为十几毫特斯拉 [18] , 因此把它 们对磁场的效应称为低场效应(low field effect, LFE). TQA作用下的MC曲线的典型线宽约为100 mT [14,18] , 且为non-Loretzian线型, 将这种远大于超精细量级的 磁效应称为高场效应(high field effect, HFE).…”