Formation of Ultrathin Films at the Solid–Liquid Interface Studied byIn SituEllipsometry

Engineering Silicon Oxide Surfaces Using Self‐Assembled Monolayers

“…Since the aggregates are preformed in solution, they cover the substrate much faster than under "dry" conditions, but are not able to form a smooth monolayer. The role of solvents on the self-assembly process was systematically investigated by McGovern et al, [52] and by Hoffmann et al [20] McGovern et al found that aromatic solvents such as toluene, which are able to extract significant amounts of water from the substrate, yielded the densest OTS films in one hour and postulated that hydrolysis of OTS took place in solution rather than at the surface, as had commonly been assumed until then. In the second study, kinetic information on the monolayer growth in different solvents was obtained by in situ ellipsometry measurements.…”

“…[7] Ellipsometry is a common optical technique for the determination of the thickness of thin films. [7,20] Detailed information on the elemental composition of SAMs can be gathered by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), [21] which probes the kinetic energy of the inner or valence electrons ejected by an incident photon with a known energy hn. An alternative technique to study the composition of a monolayer is secondary ion mass spectrometry (SIMS).…”

Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

“…[7] Die Bestimmung der Schichtdicke dünner Filme erfolgt durch Ellipsometrie, eine hierfür übliche optische Technik. [7,20] Detaillierte Informationen zur Zusammensetzung von SAMs können durch Röntgenphoto-elektronenspektroskopie (X-ray photoelectron spectroscopy, XPS) erhalten werden, [21] bei der die kinetische Energie eines inneren Elektrons oder Valenzelektrons, das durch ein einfallendes Photon mit bekannter Energie hn herausgeschleudert wird, detektiert wird. Eine alternative Technik, um die Zusammensetzung einer Monoschicht zu bestimmen, ist die Sekundärionenmassenspektrometrie (SIMS): [22,23] Hierbei wird die SAM mit einem Strahl hochenergetischer "Primär-partikel" (Ionen) bombardiert, und die emittierten, ionisierten "Sekundärpartikel" werden analysiert.…”

“…8-108) als jene in chemisorbierten Schichten [52] und Hoffmann et al [20] [14,17] voraus, dass Monoschichten über Inseln entstehen, während andere die Meinung vertraten, dass stattdessen zunächst ungeordnete, homogene, unvollständige Monoschichten gebildet werden. [26,42,[53][54][55] Beide Prozesse sind in Abbildung 2 dargestellt.…”

“…Bei diesen Studien wurden Analysetechniken wie In-situ-ATR-IR, [69] AFM, [61] Röntgenreflexion [70] und Ellipsometrie eingesetzt. [20] Unlängst wurde ein einfaches zweidimensionales Modell für das Wachstum von AlkylsilanMonoschichten auf hydroxylierten Oberflächen vorgestellt. [71] Dieses Modell schließt sowohl schwache als auch starke Wechselwirkungen der Adsorbate ein und ermöglicht die Reproduktion von Merkmalen wie dem Inselwachstum und den Langmuir-Adsorptionskinetiken erster Ordnung.…”