“…Два из них применялись для очистки рабочего газа (Ar) от химически активных газов с помощью распыления титана [16]. При этом проводился беспроточный напуск Ar, а после его очистки парциальное давление всех остаточных химически активных газов составляло величину 8 · 10 −8 Pa [16]. Третий магнетрон-ный распылитель изолировался от двух других системой экранов и использовался для получения конденсатов Zn.…”